水中As(Ⅲ)氧化的研究进展

• 作者: 于树芳 任芝军 刘桂芳 孙亚全 李嘉 王春丽 高远
• 来源期刊: 工业水处理
• 关键词: 砷 氧化剂 直接氧化 高级氧化
• 年，卷（期）: 2013,（9）
• 所属期刊栏目: 专论与综述
• 页码范围: 15-19
• 页数: 5页
• 分类号: X703.1
• 语种: 中文

摘要

由于水中As(Ⅲ)的直接去除较难,处理过程中多将As(Ⅲ)氧化成As(Ⅴ)后进行去除.重点介绍了水中As(Ⅲ)的两类氧化法(氧化剂直接氧化法和高级氧化法)的原理和研究进展.其中氧化剂直接氧化法中主要介绍了H2O2、锰氧化物、铁及其氧化物和氯氧化物等氧化剂;高级氧化间接氧化法中主要介绍了TiO2光催化氧化、电催化氧化、超声波氧化和过硫酸盐氧化.最后,对As(Ⅲ)氧化的发展方向进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王春丽	哈尔滨工程大学航天与建筑工程学院	25	240	8.0	15.0
2	刘桂芳	哈尔滨工程大学航天与建筑工程学院	23	326	10.0	18.0
3	任芝军	哈尔滨工程大学航天与建筑工程学院	23	136	8.0	10.0
4	孙亚全	哈尔滨工程大学航天与建筑工程学院	5	105	4.0	5.0
5	李嘉	哈尔滨工程大学航天与建筑工程学院	2	7	2.0	2.0
6	于树芳	哈尔滨工程大学航天与建筑工程学院	1	5	1.0	1.0