掺锡氧化铟陶瓷靶材在直流磁控溅射过程中“结瘤”的形成与演化

• 作者: 侯俊峰 周科朝 姜鹤 孙本双 李志友
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: ITO靶材 结瘤 溅射 凸起
• 年，卷（期）: 2013,（8）
• 页码范围: 1590-1594
• 页数: 5页
• 分类号: TF122
• 字数: 2272字
• 语种: 中文

摘要

以共沉淀ITO粉制备的陶瓷靶材为溅射靶,采用EDX、XRD、SEM研究了靶材在磁控溅射过程中“结瘤”的化学组分及物相组成,并对不同阶段“结瘤”的微观结构进行表征,探讨了“结瘤”的生长演化过程及形成机理.结果表明:“结瘤”与靶材基体具有相同的化学组成及物相结构,其生长演化分为锥状“结瘤”的形成及生长、锥顶外皮脱落、“结瘤”断裂、断面平滑、诱发新“结瘤”产生5个阶段.溅射过程中的“自溅射”效应使外来杂质颗粒和In2O3分解产生的InO在靶材表面形成的凸起逐渐长大并最终形成“结瘤”.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周科朝	中南大学粉末冶金国家重点实验室	294	2609	23.0	37.0
2	李志友	中南大学粉末冶金国家重点实验室	138	1139	15.0	26.0
3	侯俊峰	中南大学粉末冶金国家重点实验室	7	26	4.0	5.0
5	孙本双		6	22	3.0	4.0
8	姜鹤		1	1	1.0	1.0