单晶钨纳米片/带的气相合成及其力学性能

• 作者: 侯丽珍 刘俊 王世良 田蜜 董虹星 贺跃辉 陈国良
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 钨 纳米片 化学气相沉积 纳米压痕
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 851-856
• 页数: 6页
• 分类号: TB302.2
• 语种: 中文

摘要

采用气态WO2(OH)2和H2作为反应气氛，通过化学气相沉积合成厚度100~300 nm、边长10~60μm的单晶W纳米片/带，通过SEM、TEM和EDS等测试分析手段对产物的形貌、结构和元素成分进行系统表征。结果表明：晶体生长热力学(表面能最小)和动力学(竞争生长)条件分别在单晶W纳米片/带的规则几何外形和二维生长方式中起到决定性作用，据此提出了单晶W纳米片/带的生长模型。纳米压痕仪测试结果表明，Si(100)基底上W纳米片的硬度和弹性模量分别为6.3 GPa和176 GPa。分别从表面氧化层，基底与纳米片之间非理想接触和基底效应等3个方面对测试结果进行了分析和讨论。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺跃辉	中南大学粉末冶金国家重点实验室	295	3508	29.0	41.0
2	王世良	中南大学物理与电子学院	28	116	7.0	8.0
6	刘俊	中南大学物理与电子学院	24	184	7.0	13.0
7	侯丽珍	中南大学粉末冶金国家重点实验室	10	28	4.0	5.0
11	陈国良	中南大学物理与电子学院	3	14	3.0	3.0
12	田蜜	中南大学物理与电子学院	2	3	1.0	1.0