高均匀度、大束斑束流线设计

• 作者: 安世忠 宋国芳 张天爵 李明 贾先禄 魏素敏
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 束流线 高均匀度束斑 旋转扫描磁铁 靶上粒子分布
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 加速器技术
• 页码范围: 3013-3016
• 页数: 4页
• 分类号: O441
• 字数: 1734字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20132511.3013

摘要

为满足放射性核素生产及科研的需求,中国原子能科学研究院设计了一台可加速H-与D-离子,双向剥离引出最高能量为70 MeV的质子束或者35 MeV的D束的紧凑型回旋加速器及配套束流输运系统.设计要求靶上束斑直径40 mm,均匀度好于95％,靶后180 mm范围内束流包络变化小于±1％以提高放射性核素的生产效率、延长靶的使用寿命.为此设计了旋转扫描磁铁,利用周期旋转的垂直于束流方向的二极场使束流在靶上进行扫描以达到均匀化.在考虑了光学匹配过程中引出区主磁铁的边缘场以及引出开关磁铁带来的色散效应的基础上研究了粒子在靶上的分布,并使束流在靶上成腰.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张天爵		58	121	6.0	7.0
2	贾先禄		15	33	4.0	5.0
3	魏素敏		8	10	2.0	3.0
4	宋国芳		12	14	2.0	3.0
5	李明		14	2	1.0	1.0
6	安世忠		15	13	1.0	3.0