运用研磨和化学机械抛光技术制备高品质的石英薄膜

• 作者: 刘畅 曾毅波 赵祖光 郭航 陈观生
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微机电系统MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems) 石英薄膜 研磨 CMP
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 生物化学类传感器
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: TP212
• 字数: 4400字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2013.01.001

摘要

石英薄膜的质量是决定各种石英基底的微纳器件品质高低的关键所在.阐述如何运用研磨和化学机械抛光CMP(Chemical&Mechanical Polishing)技术获得高品质石英薄膜的方法.由于石英属于高硬度材料,选用金刚石研磨液和球墨铸铁研磨盘对石英衬底进行研磨,以获得较高的研磨速率和较好的研磨后的表面粗糙度.在石英CMP中,采用特殊的“两步抛“工艺,对衬底进行抛光.第一步粗抛抛光液采用金刚石颗粒直径为0.3 μm的研磨液与SiO2颗粒直径为50 nm的抛光液相混合,第二步精抛只采用SiO2的抛光液.实验结果表明,采用上述技术,可以获得高品质的石英薄膜,厚度为(25.1±3.2)μm,表面粗糙度约为0.89 nm(RMS).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭航	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	34	112	6.0	8.0
2	曾毅波	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	10	53	4.0	7.0
6	刘畅	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	15	25	3.0	4.0
10	陈观生	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	3	10	2.0	3.0
14	赵祖光	厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院	2	4	1.0	2.0