高深宽比硅基微纳结构制造方法及其应用

• 作者: 丑修建 刘冰 熊继军 穆继亮 郭茂香 陈东红
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微/纳机电系统 高深宽比 硅微结构 刻蚀技术 应用
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 趋势与展望
• 页码范围: 321-327
• 分类号: TN303
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2013.05.001

摘要

三维高深宽比硅基结构是基于微纳制造技术的功能载体或执行机构.其由于小尺寸特征而获得特殊的微纳效应,具有灵敏度高、分辨率高、噪声低、位移量小等特点,在光电、生物、微能源和集成互连等技术领域具有广泛应用前景.主要分析了高深宽比硅基微纳结构的种类及特点；系统综述了该结构的制造方法及国内外研究现状；详细描述了不同外形特征结构的应用领域；从工艺标准、建模仿真、批量生产等方面讨论了高深宽比硅基微纳结构制造存在的技术瓶颈问题,并对高深宽比硅基微纳结构的可靠制造与发展趋势进行了展望.