金刚石膜表面氨等离子体处理研究

• 作者: 李成明 高旭辉 魏俊俊 黑立富
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 化学
• 关键词: 金刚石薄膜 微波等离子体 氨基 水接触角
• 年，卷（期）: 2013,（8）
• 页码范围: 1526-1530
• 页数: 5页
• 分类号: O646
• 字数: 3614字
• 语种: 中文

摘要

本文尝试采用微波等离子体CVD技术,实现金刚石膜的制备以及金刚石膜表面的氨等离子体处理,实现氨基功能化修饰金刚石膜的制备.通过扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)以及水接触角等对氨等离子体处理前后的金刚石膜进行检测分析.结果表明,采用微波等离子体CVD技术,可以在金刚石膜表面植入氨基实现功能化修饰,从而提高金刚石膜表面活性.同时,金刚石膜的整体品质未出现显著变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏俊俊	北京科技大学新材料技术研究院	32	112	5.0	9.0
2	高旭辉	北京科技大学新材料技术研究院	6	53	3.0	6.0
3	黑立富	北京科技大学新材料技术研究院	39	153	6.0	10.0
4	李成明	北京科技大学新材料技术研究院	71	480	12.0	19.0