EB-PVD在热障涂层中的研究及应用

• 作者: 宫骏 巴德纯 杜广煜 王栋 陈小龙
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束物理气相沉积 热障涂层 工艺特点 改进
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 6-8
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文

摘要

EB-PVD是以高能电子束为热源的一种蒸发镀膜技术.在真空的环境下,高能离子束轰击靶材(金属,陶瓷等),使其融化、升华、蒸发,最后沉积在基片上.由于EB-PVD技术具有蒸发和沉积速率高,涂层致密,化学成分易于精确控制,可得到柱状晶组织,无污染,热效率高,基片与薄膜之间有较强的结合力等诸多优点,已被广泛应用于国防和民用领域.本文介绍了EB-PVD技术在制备热障涂层时优势、不足与改进措施.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯	东北大学机械工程与自动化学院	250	1491	18.0	22.0
2	宫骏	中国科学院金属研究所	52	464	12.0	20.0
3	陈小龙	中国科学院金属研究所	21	80	6.0	7.0
4	杜广煜	东北大学机械工程与自动化学院	28	84	6.0	8.0
5	王栋	东北大学机械工程与自动化学院	3	11	1.0	3.0