DC-HCPCVD法高CH4流量下纳米金刚石膜的制备及生长特性研究

• 作者: 吴春雷 张军 李明 郑友进 黄海亮
• 来源期刊: 真空
• 学科: 化学
• 关键词: 直流热阴极 纳米金刚石膜 CH4流量
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: O613.71|TQ163
• 语种: 中文

摘要

在CH4/H2气氛下,利用直流热阴极PCVD(plasma chemical vapor deposition)设备,在高CH4流量下制备纳米金刚石膜.对制备的样品通过扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪对其进行表征.结果表明:随着CH4流量的增加,晶粒尺寸明显减小,表面变得更加平滑,但非金刚石相增多,膜的品质下降.同时CH4流量增加,促进了(110)面的生长,当CH4流量达到12 sccm,具有(110)方向的择优取向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑友进	牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料黑龙江省重点实验室	54	81	4.0	7.0
2	李明	牡丹江师范学院工学院	5	1	1.0	1.0
3	张军	牡丹江师范学院理学院	17	31	3.0	5.0
4	吴春雷	牡丹江师范学院理学院	20	56	5.0	6.0
8	黄海亮	牡丹江师范学院理学院	18	26	3.0	4.0