薄膜理想台阶的制备方法研究

• 作者: 付文博 周晓松 杨本福 梁建华 王维笃 程贵均
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 膜厚 边缘效应 理想台阶 粗糙度
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 标准及检测
• 页码范围: 113-118
• 分类号: O484.5
• 语种: 中文

摘要

目的 研究台阶的形貌对台阶仪测试的影响,准确测试薄膜的厚度.方法 分析制备台阶中存在的问题,针对这些问题设计了中轴线位置带掩膜条的掩膜板,并采用该新型掩膜板,在不同衬底上制备台阶,用台阶仪对薄膜的厚度进行测定.结果 在薄膜中轴线附近做出的台阶,坡度陡峭,上下表面清晰.Mo衬底上制备出的薄膜厚度重复性较好;单晶硅衬底上制备的薄膜表面粗糙度较大;石英衬底上制备薄膜形成的台阶上下表面均较为平滑.结论 使用新型掩膜板在石英衬底上制备出理想台阶,可较为准确地测试薄膜的厚度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨本福	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	38	211	8.0	13.0
2	梁建华	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	30	63	4.0	5.0
3	周晓松	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	39	89	5.0	6.0
4	王维笃	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	10	39	3.0	6.0
5	付文博	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	2	3	1.0	1.0
6	程贵均	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	1	3	1.0	1.0