不同弧源电流TiN薄膜的表面形貌及其摩擦学性能研究

• 作者: 史新伟
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: TiN薄膜 弧源电流 多弧离子镀 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 23-27
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

本文使用AIP-01型国产多弧离子镀膜设备,采用不同的弧源电流在不锈钢衬底及Si片上制备了TiN薄膜,对其硬度、表面形貌以及摩擦系数等进行了测试,从电弧沉积的物理机制角度详细分析了弧源电流对TiN薄膜表面熔滴的影响,结果表明:随着弧源电流的增大,薄膜沉积速率增大、硬度提高,但薄膜表面熔滴(MP)数量增多、尺寸变大,表面粗糙,摩擦系数增大,因此控制最佳弧源电流来获得最好的薄膜性能是离子镀TiN薄膜的关键问题之一.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史新伟		28	177	7.0	12.0