偶联剂GPTMOS对PI/SiO2杂化薄膜微观结构的影响

• 作者: 张明艳 牛颖
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 聚酰亚胺 二氧化硅 偶联剂 微观结构
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 页码范围: 12-14
• 分类号: TM215
• 语种: 中文

摘要

以3-缩水甘油丙基醚三甲氧基硅烷(GPTMOS)为偶联剂,采用溶胶-凝胶法制备了3种不同偶联剂用量的PI/SiO2杂化薄膜,并采用红外光谱、扫描电子显微镜表征了PI/SiO2杂化薄膜的化学结构和微观结构.结果表明:偶联剂GPTMOS的加入能有效减小SiO2粒子的粒径,且能生成更加紧密的SiO2网络结构;随着偶联剂用量的增加,SiO2粒子的粒径逐渐变小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张明艳	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	65	507	13.0	18.0
2	牛颖		13	29	4.0	4.0