负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响

• 作者: 刘野 潘玉鹏 薛利 许世鹏 黄美东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 TiN薄膜 偏压 沉积速率
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 20-22
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.8
• 语种: 中文

摘要

采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响.实验结果表明,随着负偏压的增加,沉积速率不断增加,但在负偏压达到一定值后,沉积速率又随偏压增大而减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
2	潘玉鹏	天津师范大学物理与电子信息学院	4	25	3.0	4.0
3	刘野	天津师范大学物理与电子信息学院	10	48	5.0	6.0
4	许世鹏	天津师范大学物理与电子信息学院	5	30	5.0	5.0
5	薛利	天津师范大学物理与电子信息学院	6	33	5.0	5.0