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摘要:
择优溅射是深度剖析实验中导致所测量元素的成分分布偏离实际的一个重要因素.本文首先在广泛应用于溅射深度剖析定量分析的MRI模型基础上,引入了一个描述择优溅射效应的参数,推导出了这个参数对所测量的深度剖面引起改变的一个解析式,并定量地模拟了择优溅射效应在深度剖析中对深度剖面形状和深度分辨率的影响.最后,应用拓展的MRI模型,定量分析了Ar+和N2+溅射Ni/Cr多层膜所得到的AES深度剖析数据,比较了相应的择优溅射比率和深度分辨率.
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文献信息
篇名 择优溅射对深度剖析谱和深度分辨率的影响
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 溅射深度剖析 MRI模型 择优溅射效应 深度分辨率
年,卷(期) 2013,(1) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 15-19
页数 5页 分类号 TB303
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王江涌 汕头大学理学院物理系非晶半导体实验室 22 34 3.0 4.0
2 刘毅 汕头大学理学院物理系非晶半导体实验室 6 15 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
溅射深度剖析
MRI模型
择优溅射效应
深度分辨率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
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