氩离子刻蚀还原氧化铜的XPS研究

• 作者: 于晓龙 张卫红 李晓莉 谢方艳 陈建 龚力
• 来源期刊: 分析测试学报
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化铜 氩离子刻蚀 X射线光电子能谱 还原
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 535-540
• 页数: 6页
• 分类号: O657.63|TQ047.9
• 字数: 3043字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4957.2013.05.003

摘要

利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术,通过改变氩离子枪的刻蚀模式,原位研究氩离子刻蚀对氧化铜的还原情况.结果发现在极其微弱的氩离子束流轰击下,CuO即被还原,刻蚀初期变化较大,之后达到稳恒状态.对Cu2p峰拟合,同时结合俄歇CuLMM峰变化,判定纯CuO经氩离子刻蚀后最终转变为氧化铜、氧化亚铜及少量单质铜的共存状态.研究结果将对氧化铜深度剖析中化学状态的判断具有重要参考价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张卫红	中山大学测试中心	62	261	10.0	15.0
2	陈建	中山大学测试中心	40	94	5.0	8.0
3	谢方艳	中山大学测试中心	17	83	5.0	8.0
4	龚力	中山大学测试中心	11	32	3.0	5.0
5	李晓莉	海南大学材料与化工学院	3	32	3.0	3.0
9	于晓龙	海南大学材料与化工学院	5	13	1.0	3.0