非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响

• 作者: 林妩媚 江海波 陈安
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻仿真 非理想照明 光瞳偏心 离轴照明
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 页码范围: 87-92
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2013.02.014

摘要

通过 PROLITH 光刻仿真软件研究了非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响以及图形位置偏移量对光瞳偏心的敏感度随数值孔径 NA 和相干因子σ的变化规律。仿真结果表明：在无像差的理想光学系统中，光瞳偏心主要影响图形的位置偏移量，图形的位置偏移量与离焦量成线性关系，直线的斜率随着偏心量的增大而增大。光瞳偏心对 H-V bias 和焦深(DOF)的影响较小。光瞳偏心和极不平衡性两者对图形位置偏移量的综合影响是这两者单独引起的图形位置偏移量的叠加。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈安	中国科学院光电技术研究所	150	1338	17.0	34.0
2	林妩媚	中国科学院光电技术研究所	21	154	8.0	11.0
3	江海波	中国科学院光电技术研究所	10	10	2.0	2.0