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封装的DC~4 GHz高隔离度吸收式单刀双掷开关
封装的DC~4 GHz高隔离度吸收式单刀双掷开关
作者:
刘宇辙
孙征宇
杨洪文
苏黎明
阎跃鹏
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
单刀双掷(SPDT)
赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)
MSOP8封装
高隔离度
吸收式
摘要:
描述了一种基于台湾稳懋(WIN)半导体公司商用0.5 μm砷化镓赝配高电子迁移率晶体管工艺的高隔离度吸收式单刀双掷射频开关芯片的设计.设计中使用两级串并结构提高隔离度,加入了吸收电阻减小关断状态下输出端的回波损耗.该芯片采用单电源5V正压控制,具有使能控制端和全关状态,且控制电平与TTL/CMOS输出电平相兼容.芯片采用8引脚微型小外形封装(MSOP8)形式进行封装,设计中通过三维电磁仿真工具HFSS分析了由封装引入的寄生参数的影响,并提取π型网络进行等效建模.该开关工作在DC ~4 GHz频段插入损耗小于1.5 dB,隔离度高于45 dB.仿真结果与实测结果基本一致.
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内容分析
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文献信息
篇名
封装的DC~4 GHz高隔离度吸收式单刀双掷开关
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
单刀双掷(SPDT)
赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)
MSOP8封装
高隔离度
吸收式
年,卷(期)
2013,(6)
所属期刊栏目
半导体集成电路
研究方向
页码范围
419-423
页数
分类号
TN63
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-353x.2013.06.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
阎跃鹏
中国科学院微电子研究所
101
427
9.0
13.0
2
杨洪文
中国科学院微电子研究所
10
23
3.0
4.0
3
刘宇辙
中国科学院微电子研究所
4
10
3.0
3.0
4
苏黎明
中国科学院微电子研究所
2
9
2.0
2.0
5
孙征宇
中国科学院微电子研究所
3
3
1.0
1.0
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引文网络
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(3)
同被引文献
(5)
二级引证文献
(7)
1996(1)
参考文献(1)
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二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
单刀双掷(SPDT)
赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)
MSOP8封装
高隔离度
吸收式
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
总被引数(次)
24788
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