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摘要:
在微弧氧化电解液中引入了KOH添加剂,并在镁合金表面制备了陶瓷膜层,研究了KOH浓度对微弧氧化过程中的膜层生长及膜层耐腐蚀性能的影响.结果表明:在镁合金微弧氧化电解液中引入KOH添加剂可以有效降低微弧氧化过程的起弧电压和工作电压,但是KOH浓度过高会使起弧电压增大;KOH的引入会使膜层中的大尺寸孔隙数目减少,孔隙率提高.为了得到较高的膜层生长速率和较好的耐蚀性,电解液中的KOH剂量以1~3 g/L为宜.
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文献信息
篇名 KOH对镁合金微弧氧化过程及膜层耐蚀性的影响
来源期刊 表面技术 学科 工学
关键词 KOH 微弧氧化 耐蚀性
年,卷(期) 2013,(4) 所属期刊栏目 研究与探索
研究方向 页码范围 43-46
页数 分类号 TG174.453
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 谢志强 32 245 9.0 14.0
2 杨建 5 77 4.0 5.0
3 李盛和 16 75 5.0 8.0
4 姜云波 13 50 4.0 6.0
5 王晓波 11 24 2.0 4.0
6 全风美 8 24 2.0 4.0
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研究主题发展历程
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KOH
微弧氧化
耐蚀性
研究起点
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相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
月刊
1001-3660
50-1083/TG
16开
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
78-31
1972
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
34163
论文1v1指导