氧氩流量比对溅射氧化钒薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 刘春伟 吕长东 唐晓红 杜姗 黄美东
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒薄膜 氧气流量 氩气流量 反应磁控溅射
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 24-27
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

采用射频反应磁控溅射方法制备氧化钒(VOx)薄膜,对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和可见光波段的透过率进行表征,研究了在沉积气压一定的情况下,氧氩流量比对氧化钒薄膜结构和光学性能的影响.结果表明,改变氧氩流量比可明显改变薄膜结构,随着氧气比例的增加,沉积速率下降,薄膜表面出现了颗粒结构,颗粒尺寸具有增大的趋势,光透过率增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
2	吕长东	天津师范大学物理与电子信息学院	3	10	2.0	3.0
3	杜姗	天津师范大学物理与电子信息学院	7	15	3.0	3.0
4	刘春伟	天津师范大学物理与电子信息学院	5	12	2.0	3.0
5	唐晓红	天津师范大学物理与电子信息学院	5	12	2.0	3.0