铜-铬合金电沉积的研究

• 作者: 滕莹雪 郭菁
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 铜-铬合金 电沉积 配位剂 氨基乙酸 电化学 导电性
• 年，卷（期）: 2013,（8）
• 所属期刊栏目: 电镀
• 页码范围: 4-7
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 2721字
• 语种: 中文

摘要

采用氨基乙酸、抗坏血酸、硫脲和柠檬酸三钠4种配位体系镀液电沉积制备Cu-Cr合金。通过测定循环伏安曲线和线性扫描伏安曲线，研究了不同镀液的电化学行为。氨基乙酸体系镀液最适用于制备Cu-Cr合金，采用该配方制得的Cu-Cr合金中Cr含量高达18.63%，10 A/dm2下电镀10 min所得镀层厚度为25μm，表面平整，呈光亮的金黄色，结合力好，相对导电率达68.2%，导电性基本满足触头材料要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭菁		5	20	2.0	4.0
2	滕莹雪		2	4	1.0	2.0