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摘要:
基于国产的SiC衬底GaN外延材料,研制出大栅宽GaN HEMT单胞管芯.通过使用源牵引和负载牵引技术仿真出所设计模型器件的输入输出阻抗,推导出本器件所用管芯的输入输出阻抗.使用多节λ/4阻抗变换线设计了宽带Wilkinson功率分配/合成器,对原理图进行仿真,优化匹配网络的S参数,对生成版图进行电磁场仿真,通过LC T型网络提升管芯输入输出阻抗.采用内匹配技术,成功研制出铜-钼-铜结构热沉封装的四胞内匹配GaN HEMT.在频率为2.7~3.5 GHz、脉宽为3 ms、占空比为50%、栅源电压Vgs为-3V和漏源电压Vds为28 V下测试器件,得到最大输出功率Pout大于100 W(50 dBm),PAE大于47%,功率增益大于13 dB.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 S波段大功率、高效率GaN HEMT器件研究
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 氮化镓(GaN) 高电子迁移率晶体管(HEMT) 内匹配 功率合成 大功率 阻抗
年,卷(期) 2013,(2) 所属期刊栏目 器件与技术
研究方向 页码范围 78-80,94
页数 分类号 TN386.3|TN304.23
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2013.02.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴洪江 中国电子科技集团公司第十三研究所 49 225 8.0 10.0
2 刘桢 中国电子科技集团公司第十三研究所 4 14 2.0 3.0
3 斛彦生 中国电子科技集团公司第十三研究所 4 12 2.0 3.0
4 银军 中国电子科技集团公司第十三研究所 12 27 4.0 5.0
5 张志国 7 48 4.0 6.0
6 吴阿慧 1 4 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
氮化镓(GaN)
高电子迁移率晶体管(HEMT)
内匹配
功率合成
大功率
阻抗
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
月刊
1671-4776
13-1314/TN
大16开
石家庄市179信箱46分箱
18-60
1964
chi
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