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S波段大功率、高效率GaN HEMT器件研究
S波段大功率、高效率GaN HEMT器件研究
作者:
刘桢
吴洪江
吴阿慧
张志国
斛彦生
银军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
氮化镓(GaN)
高电子迁移率晶体管(HEMT)
内匹配
功率合成
大功率
阻抗
摘要:
基于国产的SiC衬底GaN外延材料,研制出大栅宽GaN HEMT单胞管芯.通过使用源牵引和负载牵引技术仿真出所设计模型器件的输入输出阻抗,推导出本器件所用管芯的输入输出阻抗.使用多节λ/4阻抗变换线设计了宽带Wilkinson功率分配/合成器,对原理图进行仿真,优化匹配网络的S参数,对生成版图进行电磁场仿真,通过LC T型网络提升管芯输入输出阻抗.采用内匹配技术,成功研制出铜-钼-铜结构热沉封装的四胞内匹配GaN HEMT.在频率为2.7~3.5 GHz、脉宽为3 ms、占空比为50%、栅源电压Vgs为-3V和漏源电压Vds为28 V下测试器件,得到最大输出功率Pout大于100 W(50 dBm),PAE大于47%,功率增益大于13 dB.
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内容分析
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内容分析
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关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
S波段大功率、高效率GaN HEMT器件研究
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
氮化镓(GaN)
高电子迁移率晶体管(HEMT)
内匹配
功率合成
大功率
阻抗
年,卷(期)
2013,(2)
所属期刊栏目
器件与技术
研究方向
页码范围
78-80,94
页数
分类号
TN386.3|TN304.23
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-4776.2013.02.003
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
吴洪江
中国电子科技集团公司第十三研究所
49
225
8.0
10.0
2
刘桢
中国电子科技集团公司第十三研究所
4
14
2.0
3.0
3
斛彦生
中国电子科技集团公司第十三研究所
4
12
2.0
3.0
4
银军
中国电子科技集团公司第十三研究所
12
27
4.0
5.0
5
张志国
7
48
4.0
6.0
6
吴阿慧
1
4
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
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共引文献
(18)
参考文献
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节点文献
引证文献
(4)
同被引文献
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二级引证文献
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二级参考文献(1)
2006(1)
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2007(1)
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2008(2)
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二级参考文献(2)
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参考文献(1)
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2013(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2015(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2016(4)
引证文献(1)
二级引证文献(3)
2017(3)
引证文献(0)
二级引证文献(3)
2018(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2019(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
2020(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
氮化镓(GaN)
高电子迁移率晶体管(HEMT)
内匹配
功率合成
大功率
阻抗
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
总被引数(次)
16974
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