钛基掺锑二氧化锡电极中间层对其电氧化性能的影响

• 作者: 杨文忠 胡海如
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 钛基 掺锑二氧化锡电极 中间层 电沉积 甲基橙 电氧化
• 年，卷（期）: 2013,（8）
• 所属期刊栏目: 电沉积技术
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.6
• 字数: 2582字
• 语种: 中文

摘要

采用电沉积-热氧化法制备含有中间层的钛基锑掺杂二氧化锡电极。研究了在含Sn和Sb(摩尔比9∶1)的乙醇溶液中电沉积制备的中间层对Ti/SnO2-Sb电极表面形貌、组成、电氧化性能和寿命的影响。有中间层和无中间层的Ti/SnO2-Sb电极表面均有龟裂。与无中间层的Ti/SnO2-Sb电极相比，有中间层的Ti/SnO2-Sb 电极表面 Ti 含量较少，Sb、Sn 含量较高。有中间层的Ti/SnO2-Sb电极的析氧电位较高，寿命较长，对甲基橙的降解率为94.1%(仅比无中间层的Ti/SnO2-Sb电极低1.3个百分点。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨文忠	南京工业大学理学院	92	534	11.0	18.0
2	胡海如	南京工业大学理学院	1	5	1.0	1.0