3种不同内冠材料固定桥应力分布的有限元分析

• 作者: 卢兆杰 李厚轩 林捷 郑志强 陈群
• 来源期刊: 口腔医学研究
• 学科: 医学
• 关键词: 有限元分析 二硅酸锂加强玻璃陶瓷 氧化锆 崩瓷
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 基础研究论著
• 页码范围: 1012-1015
• 页数: 4页
• 分类号: R783.1
• 语种: 中文

摘要

目的:使用2维有限元模型分析3种不同底层冠材料的3单位固定桥中界面应力分布情况.方法:建立近远中向的2维下颌第一磨牙缺失3单位固定桥有限元模型,在有限元软件中设计3种不同底层冠材料和桥体咬合面饰瓷厚度.使用有限元分析计算底层冠与饰瓷界面的应力分布.结果:氧化锆底层冠表现出较金合金和二硅酸锂加强玻璃陶瓷更高的界面应力.咬合面饰瓷厚度增加时,交界面的压应力峰值趋向于减小.结论:总体上看,氧化锆底层冠在连接体和桥体底部比金合金和二硅酸锂加强玻璃陶瓷出现更高的应力集中区.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈群		75	272	10.0	11.0
2	郑志强		35	154	7.0	10.0
3	李厚轩		15	47	4.0	6.0
4	林捷		19	45	4.0	5.0
5	卢兆杰		25	103	5.0	9.0