Mg0.57Zn0.43O 合金薄膜生长及性能表征*

• 作者: 曹建明 秦杰明 蒋大勇
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: MOCVD Mg0.57Zn0.43O 热处理 光响应
• 年，卷（期）: 2013,（13）
• 页码范围: 138101-1-138101-6
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.62.138101

摘要

本文利用金属有机气相沉积法(MOCVD)生长单一立方相 Mg0.57Zn0.43O (记作立方 MZO)合金薄膜,以及该合金薄膜在后期热处理过程中质量和热稳定性的关系.通过 X 射线衍射等测试发现,后期热处理对于立方 MZO 合金薄膜质量具有较大的影响.其中在500—850?C 的条件下,合金薄膜的结晶质量和表面形貌随温度的增加得到明显的改善,吸收截止边逐渐蓝移,带隙展宽,但仍保持单一立方结构.当温度达到950?C 时立方 MZO 合金薄膜出现混合相.通过对立方 MZO 合金薄膜制备的 MSM 型单元器件进行光响应的测试表明,在外加15 V 的偏压下,器件的响应峰值在260 nm 附近,紫外/可见抑制比大约为4个数量级,饱和响应度为3.8 mA/W,暗电流值为5 pA 左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	秦杰明	长春理工大学材料科学与工程学院	19	32	3.0	5.0
3	蒋大勇	长春理工大学材料科学与工程学院	21	52	5.0	7.0
6	曹建明	长春理工大学材料科学与工程学院	4	16	2.0	4.0