氧氩比及基底温度对脉冲磁控溅射Cu2O薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 张力元 杨培志 杨雯 段良飞 自兴发
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲磁控溅射 Cu2O薄膜 氧氩比 基底温度 光学特性
• 年，卷（期）: 2013,（9）
• 页码范围: 1802-1807
• 页数: 6页
• 分类号: TB34
• 字数: 3933字
• 语种: 中文

摘要

利用脉冲磁控溅射制备技术,采用单质金属铜靶作为溅射靶,在氧气(O2)和氩气(Ar)的混合气氛下在石英玻璃基底上制备Cu2O薄膜,研究了O2和Ar流量比(O2/Ar)及基底湿度对沉积的Cu2O薄膜结构、表面形貌及光学性能的影响.结果表明:在O2/Ar为30∶80的气氛条件下,基底温度在室温(RT)和100℃时均可获得单相的Cu2O＜ 111＞薄膜;薄膜表面致密、颗粒呈球状,粗糙度的均方根(RMS)值随基底温度增加而增大;薄膜的光谱吸收范围为300～ 650 nm,紫外区吸收较强,可见光区吸收强度较弱,吸收强度随基底温度的增加而增强,光学带隙(Eg)随基底温度的增加而减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	自兴发		25	67	4.0	7.0
5	杨雯		1	4	1.0	1.0
6	杨培志		1	4	1.0	1.0
7	段良飞		1	4	1.0	1.0