本底真空度对PVD/TiN涂层组织和性能的影响

• 作者: 万珍珍 付青峰 曹美蓉 魏仕勇
• 来源期刊: 江西科学
• 关键词: 本底真空度 PVD TiN涂层 42CrMo钢
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 工程与材料科学
• 页码范围: 797-799
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文

摘要

采用物理气相沉积(PVD) TiN涂层的表面处理技术,对合金结构钢进行表面强化处理.分析了不同本底真空度下TiN涂层的硬度、膜基结合力以及涂层颗粒尺寸等.结果表明,本底真空度在7.8×10-3～ 10.0×10-2 Pa范围内,本底真空度与涂层颗粒尺寸成反比,与硬度和膜基结合力成正比.当其为7.8×10-3 Pa时进行30-40 min沉积的涂层,涂层硬度可达到1 878.63 HVo.1,结合力达到7.86 N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏仕勇	江西省科学院铜钨新材料重点实验室	35	114	6.0	9.0
2	付青峰	江西省科学院铜钨新材料重点实验室	44	121	6.0	8.0
3	曹美蓉	江西省科学院铜钨新材料重点实验室	11	46	3.0	6.0
4	万珍珍	江西省科学院铜钨新材料重点实验室	20	42	3.0	5.0