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摘要:
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SOI MOSFET器件的热载流子退化机理
绝缘体上硅
热载流子注入效应
失效机理
可靠性
埋部分P+层背栅SOI高压器件新结构
重掺杂P型层
背栅
击穿电压
比导通电阻
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 A high-voltage SOI MOSFET with a compensation layer on the trenched buried oxide layer
来源期刊 半导体学报(英文版) 学科
关键词
年,卷(期) 2013,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 31-34
页数 分类号
字数 语种 英文
DOI 10.1088/1674-4926/34/3/034003
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半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
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8
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35317
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