Al-Sn共掺杂ZnO薄膜的结构与光电性能研究

• 作者: 冯晓梅 刘斌 吴天如 岳之浩 沈鸿烈 王威
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 磁控溅射 Al-Sn共掺杂 光电特性
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 115-119
• 分类号: O484|TN304.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2013.02.03

摘要

采用射频磁控共溅射法在玻璃衬底上制备出了Al与Sn共掺杂的ZnO(ATZO)薄膜.在固定ZnO∶Al(AZO)靶溅射功率不变的条件下,研究了Sn靶溅射功率对ATZO薄膜的结晶质量、表面形貌、电学和光学性能的影响.结果表明,制备的ATZO薄膜是六角纤锌矿结构的多晶薄膜,具有c轴择优取向,而且表面致密均匀.当Sn溅射功率为5W时,330 nm厚度的ATZO薄膜的电阻率最小为1.49×10-3 Ω·cm,比AZO薄膜下降了22％.ATZO薄膜在400～900 nm波段的平均透过率为88.92％,禁带宽度约为3.62 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘斌	南京航空航天大学材料科学与技术学院	50	2075	20.0	45.0
2	沈鸿烈	南京航空航天大学材料科学与技术学院	93	264	9.0	10.0
3	吴天如	南京航空航天大学材料科学与技术学院	10	38	3.0	6.0
4	王威	南京航空航天大学材料科学与技术学院	23	52	4.0	5.0
5	冯晓梅	南京航空航天大学材料科学与技术学院	15	60	5.0	7.0
6	岳之浩	南京航空航天大学材料科学与技术学院	8	19	3.0	3.0