抛光表面的亚表层损伤检测方法研究

• 作者: 党娟娟 王会婷 王春慧 田爱玲
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 抛光表面 亚表面损伤 共聚焦成像 显微光学 光学散射
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 激光测量
• 页码范围: 214-218
• 页数: 5页
• 分类号: TN247
• 字数: 4000字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb20134202.0214

摘要

光学元件磨削加工引入的亚表面损伤威胁着光学元件的使用性能及寿命,成为现阶段高能激光发展的瓶颈问题,特别是抛光表面光学元件的亚表面损伤检测已成为光学元件制造行业的研究热点和难点.本文结合光学共聚焦成像、层析技术、显微光学、光学散射以及微弱信号处理等技术,给出了基于光学共焦层析显微成像的光学元件亚表面损伤检测方法.分析了不同针孔大小对测量准确度的影响,并首次给出了亚表面损伤的纵向截面分布图.与腐蚀法比较结果显示:针对自行加工的同一片K9玻璃,采用本文提出的方法测得的亚表面损伤深度45 μm左右；采用化学腐蚀处理技术,对光学元件逐层刻蚀,观察得到的亚表面损伤深度50～55 μm.两者基本一致,进一步验证了本文采用的方法可以实现对光学元件亚表面损伤的定量、非破坏检测.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田爱玲	西安工业大学光电工程学院陕西省薄膜与光学检测重点实验室	64	392	11.0	16.0
2	王春慧	西安工业大学光电工程学院陕西省薄膜与光学检测重点实验室	8	58	5.0	7.0
3	王会婷	西安工业大学光电工程学院陕西省薄膜与光学检测重点实验室	1	13	1.0	1.0
4	党娟娟	西安工业大学光电工程学院陕西省薄膜与光学检测重点实验室	2	24	2.0	2.0