直流反应磁控溅射制备a-C:H薄膜及其表面粗糙度研究

• 作者: 宁晓阳 张艳茹 杭凌侠 郭峰
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 直流反应磁控溅射 含氢类金刚石薄膜 沉积速率 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 92-94,121
• 分类号: TG174.444|O484.5
• 语种: 中文

摘要

为研究含氢类金刚石(a-C:H)薄膜的制备及性能,充入含-CH3原子团的CH4气体,在不同CH4/Ar流量比条件下于N型硅基底上沉积a-C:H薄膜,并借助椭偏仪、非接触式白光干涉仪及激光波面干涉仪对薄膜的沉积速率及表面粗糙度进行测定.结果表明,含氢碳源气体的加入提高了类金刚石薄膜的沉积速率,改善了表面平整度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杭凌侠	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	93	777	15.0	22.0
2	张艳茹	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	2	5	1.0	2.0
3	宁晓阳	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	2	11	2.0	2.0
4	郭峰	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	5	12	2.0	3.0