聚二甲基硅氧烷薄膜的衬底硅烷化及测试分析

• 作者: 张文栋 李刚 李朋伟 桑胜波 胡杰 马文哲
• 来源期刊: 现代化工
• 学科: 化学
• 关键词: 聚二甲基硅氧烷 衬底 静态接触角 三甲基氯硅烷 硅烷化
• 年，卷（期）: 2013,（9）
• 所属期刊栏目: 分析测试
• 页码范围: 142-145
• 页数: 4页
• 分类号: O652.1
• 字数: 2731字
• 语种: 中文

摘要

聚二甲基硅氧烷(PDMS)微薄膜可作为高灵敏生物传感器的敏感单元.为了实现敏感单元的制备,往往需要进行揭膜.采用对衬底硅烷化的方法,研究了PDMS微薄膜的揭膜工艺.通过测试其旋涂衬底:玻璃片、Si片的表面静态接触角,实验证明三甲基氯硅烷(TMCS)可改善衬底疏水特性,在硅烷化10 min后,PDMS微米级薄膜可从衬底完整揭下.同时,研究表明浓硫酸和过氧化氢混合液可增强玻璃片亲水性并促进硅烷化,以及在氢氟酸处理Si片时,Si片疏水性随浸泡时间先增强后减弱.