基片温度对脉冲激光沉积CNx薄膜的组织结构和摩擦学性能的影响

• 作者: 杨芳儿 沈涛 郑晋翔 郑晓华
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 氮化碳 摩擦与磨损 X射线光电子谱 拉曼光谱 脉冲激光沉积
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 371-376
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2013.04.15

摘要

采用脉冲激光烧蚀氮化碳薄膜靶,在室温至450℃基片温度下制备了CNx薄膜.利用扫描电镜、X射线衍射仪、X射线光电子谱仪和拉曼光谱仪等对薄膜的形貌、结晶性和结合键状态进行了表征.采用球-盘式摩擦仪测试了薄膜在大气中(相对湿度60％～62％)的摩擦磨损性能.结果表明:所得CNx薄膜均呈非晶状态,表面形貌与基片温度无关.随着基片温度的升高,薄膜含氮量由原子分数25.3％下降至21.2％,膜中sp3C-C键的含量增加且在300℃时达到最高,N-sp3C键的含量下降且在150℃时最高；拉曼谱中ID/IG比值上升,G峰蓝移且半高宽下降,薄膜结构有序度升高-石墨化程度增加；薄膜的摩擦系数从0.23下降至0.13,磨损率从3.0× 10-15 m3N-1m-1上升至9.3×10-15 m3N-1m-1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑晓华	浙江工业大学机械工程学院	35	161	7.0	10.0
2	杨芳儿	浙江工业大学机械工程学院	32	87	6.0	7.0
3	沈涛	浙江工业大学机械工程学院	5	11	2.0	3.0
4	郑晋翔	浙江工业大学机械工程学院	4	10	2.0	3.0