电沉积聚8-羟基喹啉膜及其耐蚀性的研究

• 作者: 刘中兴 刘小勤 徐钦建 曾冬铭 黄凤祥
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 聚8-羟基喹啉 防腐蚀 循环伏安法
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 84-88
• 分类号: TQ153.3
• 语种: 中文

摘要

采用循环伏安法合成了一种新的聚合物膜——聚8-羟基喹啉膜,推测了聚合的机理,通过红外光谱分析了聚合膜的组成.采用单因素实验优化了成膜条件,结果表明,循环伏安法形成聚8-羟基喹啉膜的最佳条件是:8-羟基喹啉浓度为0.002 mol/L,氢氧化钠浓度为0.4 mol/L,扫描速度30 mV/s,扫描8圈.采用该成膜条件在镀镍工件上电沉积聚8-羟基喹啉,其表面形成了一层浅黄色明亮光滑的致密薄膜,达到封孔目的,使得工件的耐蚀性显著提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾冬铭	中南大学化学化工学院	53	500	14.0	20.0
5	刘中兴		7	21	3.0	4.0
6	黄凤祥	中南大学化学化工学院	5	12	2.0	3.0
7	刘小勤	中南大学化学化工学院	5	15	3.0	3.0
8	徐钦建	中南大学化学化工学院	2	5	2.0	2.0