基于多晶硅的曲面高反膜研究

• 作者: 刘方元 王健 胡强 赵勇
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: PDP 反射率 磁控溅射 高反膜 曲面
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 362-367
• 分类号: TN141.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2013.04.13

摘要

本文提出并初步实现一种提高等离子显示面板(PDP)出光率的多层干涉型反射膜,其中高折射率材料采用金属诱导多晶硅,低折射率材料采用二氧化硅,并通过实验得到了可见光波段平均反射率为80％的平面高反膜.实验中采用半圆管替代实际PDP中的障壁结构,并且通过蒙特卡罗方法分析了粒子在磁控溅射中沉积到半圆管壁上的过程,得到了薄膜在样片不同圆心角处的厚度分布.模拟实验表明改善膜厚均匀性的主要途径是提高溅射气压.通过简易可靠的反射率测试系统,在红光波段对曲面上的薄膜进行了反射率测量,初步证明所提结构和制备方法的可行性.在0.7Pa的气压下,溅射沉积得到的样品的反射率为50％ ～65％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵勇	清华大学电子工程系	60	728	16.0	24.0
2	王健	清华大学电子工程系	57	1058	14.0	32.0
3	刘方元	清华大学电子工程系	1	0	0.0	0.0
4	胡强	清华大学电子工程系	3	1	1.0	1.0