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基于CMOS工艺的高Q值集成电感设计
基于CMOS工艺的高Q值集成电感设计
作者:
林艳丽
裴晓敏
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
集成电感
品质因数
差分对称
渐变线宽
图案接地屏蔽
摘要:
采用三维全波电磁场模拟软件HFSS作为分析工具,对八边形差分对称结构电感和单端结构电感进行对比研究,提出利用多层金属并联布线、渐变线宽和图案接地屏蔽(PGS)等结构与差分对称结构集成来提高片上电感性能的设计方案.此方案能与标准硅基CMOS工艺兼容.仿真结果表明,该方案能有效提高集成电感的Q值.
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文献信息
篇名
基于CMOS工艺的高Q值集成电感设计
来源期刊
微电子学
学科
工学
关键词
集成电感
品质因数
差分对称
渐变线宽
图案接地屏蔽
年,卷(期)
2013,(1)
所属期刊栏目
半导体器件与工艺
研究方向
页码范围
107-110,114
页数
5页
分类号
TN405
字数
2970字
语种
中文
DOI
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裴晓敏
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研究主题发展历程
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集成电感
品质因数
差分对称
渐变线宽
图案接地屏蔽
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微电子学
主办单位:
四川固体电路研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-3365
CN:
50-1090/TN
开本:
大16开
出版地:
重庆市南坪花园路14号24所
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3955
总下载数(次)
20
总被引数(次)
21140
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