电化学法涂层导体CeO2缓冲层外延生长研究

• 作者: 刘志勇 张义邴 朱红妹 桑丽娜 蔡传兵 鲁玉明
• 来源期刊: 低温与超导
• 关键词: YBa2Cu3O7-δ 涂层导体 电化学沉积 缓冲层
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 超导技术
• 页码范围: 38-43
• 页数: 6页
• 字数: 3186字
• 语种: 中文

摘要

电化学沉积法制备高温超导YBa2 Cu3O7-δ涂层导体缓冲层具有工艺简单、设备要求低、易于连续化批量制备等优点.采用电化学沉积法,在双轴织构的Ni-5at.％W(Ni-5W)金属基带上成功制备出了具有良好c轴取向的CeO2缓冲层薄膜.利用X射线衍射、极图、扫描电子显微镜和原子力显微镜等对上述氧化物薄膜的织构、表面形貌等进行表征.重点研究了薄膜厚度、退火温度、退火时间等工艺对薄膜外延生长及其表面形貌的影响,结果表明:电化学沉积方法制备的CeO2缓冲层具有很好的双轴织构、表面平整、均一,粗糙度低,表现出良好的缓冲层性质.结合金属有机化学溶液超导层的制备技术,本工作展示了一条全化学法制备第二代高温超导带材的技术路线,具有很好的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张义邴	上海大学超导及应用技术研究中心	23	42	3.0	5.0
2	朱红妹	上海大学超导及应用技术研究中心	12	18	2.0	4.0
3	蔡传兵	上海大学超导及应用技术研究中心	34	94	5.0	9.0
4	刘志勇	上海大学超导及应用技术研究中心	25	75	3.0	8.0
5	鲁玉明	上海大学超导及应用技术研究中心	27	88	4.0	9.0
6	桑丽娜	上海大学超导及应用技术研究中心	3	8	1.0	2.0