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摘要:
金属辅助化学刻蚀是近些年发展起来的一种各向异性湿法刻蚀,利用该方法可以制备出高长径比的半导体一维纳米结构.本文综述了金属辅助化学刻蚀法可控制备硅纳米线的最新进展,简要概述了刻蚀的基本过程与机制,重点阐述了基于不同模板的金属辅助化学刻蚀可控制备高度有序、高长径比的硅纳米线阵列的具体流程与工艺,并介绍了其在锂离子电池、太阳能电池、气体传感检测和仿生超疏水等方面的潜在应用,探讨了目前存在的问题及其今后的研究发展方向.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线及应用
来源期刊 应用化学 学科 化学
关键词 硅纳米线 金属辅助化学刻蚀 可控制备 模板 锂离子电池
年,卷(期) 2013,(11) 所属期刊栏目 综合评述
研究方向 页码范围 1257-1264
页数 8页 分类号 O649
字数 4992字 语种 中文
DOI 10.3724/SP.J.1095.2013.30048
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李国才 太原理工大学信息工程学院 7 43 4.0 6.0
2 胡杰 太原理工大学信息工程学院 26 70 6.0 7.0
3 范绪阁 太原理工大学信息工程学院 1 9 1.0 1.0
4 程超群 太原理工大学信息工程学院 1 9 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
硅纳米线
金属辅助化学刻蚀
可控制备
模板
锂离子电池
研究起点
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研究分支
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期刊影响力
应用化学
月刊
1000-0518
22-1128/O6
大16开
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1983
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