金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线及应用

• 作者: 李国才 程超群 胡杰 范绪阁
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 硅纳米线 金属辅助化学刻蚀 可控制备 模板 锂离子电池
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 1257-1264
• 页数: 8页
• 分类号: O649
• 字数: 4992字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1095.2013.30048

摘要

金属辅助化学刻蚀是近些年发展起来的一种各向异性湿法刻蚀,利用该方法可以制备出高长径比的半导体一维纳米结构.本文综述了金属辅助化学刻蚀法可控制备硅纳米线的最新进展,简要概述了刻蚀的基本过程与机制,重点阐述了基于不同模板的金属辅助化学刻蚀可控制备高度有序、高长径比的硅纳米线阵列的具体流程与工艺,并介绍了其在锂离子电池、太阳能电池、气体传感检测和仿生超疏水等方面的潜在应用,探讨了目前存在的问题及其今后的研究发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李国才	太原理工大学信息工程学院	7	43	4.0	6.0
2	胡杰	太原理工大学信息工程学院	26	70	6.0	7.0
3	范绪阁	太原理工大学信息工程学院	1	9	1.0	1.0
4	程超群	太原理工大学信息工程学院	1	9	1.0	1.0