NiTi形状记忆合金中Ni4Ti3共格沉淀相自催化生长效应的相场模拟

• 作者: 张新平 曹姗姗 柯常波 马骁 黄平
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: NiTi形状记忆合金 自催化效应 应力场 浓度场 相场法
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 页码范围: 115-122
• 页数: 8页
• 分类号: TG113.12
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2012.00264

摘要

利用相场模型研究了Ni4Ti3沉淀相自催化效应的产生机制,基于体系各种能量的变化规律研究了自催化生长效应中合理的Ni4Ti3变体群的排列方式.模拟研究结果表明,在模拟最初的时间内,为缓解球形Ni4Ti3相与NiTi基体相形态上的不匹配,体系的化学自由能逐渐增大,弹性能和界面能逐渐减小；当Ni4Ti3相与NiTi基体相达到最佳匹配后,相变过程中化学自由能逐渐减小,弹性能和界面能逐渐增大；整个相变过程中体系向低能量态发展.同取向变体的梯形排列模式具有最大的优先性,其次是同取向变体的水平排列方式,再次是不同取向变体的边-面排列方式,最不具优先性的是同种变体的垂直排列模式.相场模拟结果深化并拓展了已有实验结论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄平		189	1407	18.0	27.0
2	柯常波		20	73	5.0	8.0
3	张新平		73	637	13.0	22.0
4	马骁		22	63	5.0	7.0
5	曹姗姗		9	22	3.0	4.0