三槽氧化沟内底推位置与积泥厚度的分析研究

• 作者: 孔凡博 张耀宗
• 来源期刊: 环境工程
• 关键词: 三槽氧化沟 底推 流态 积泥
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 水污染治理
• 页码范围: 6-8,12
• 页数: 4页
• 字数: 3195字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7617/j.issn.1000-8942.2013.04.002

摘要

氧化沟工艺由于进水中含有大量的无机颗粒,无机颗粒的沉淀导致沟内积泥较厚.为了不影响正常生产,依据经验数据,依次对l号、2号氧化沟安装底推.对沟内积泥情况及影响因素进行分析比较,得出氧化沟的积泥主要由进水中密度较大的无机颗粒造成,且积泥规律与底推安装位置和运行情况相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张耀宗		6	42	2.0	6.0
2	孔凡博		2	4	1.0	2.0