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摘要:
中芯国际近期宣布在背照式CMOS成像传感技术研发领域取得突破性进展,首款背照式CMOS成像传感测试芯片一次流片即获得成功,在低照度下同样可获得高质量的清晰图像.这标志着中芯国际自主开发的背照式CMOS成像传感芯片全套晶圆工艺核心技术接近成熟.步入产业化阶段,更好地满足高端智能移动终端的需要.
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文献信息
篇名 中芯国际背照式成像传感技术取得突破
来源期刊 集成电路应用 学科 工学
关键词 传感技术 背照式 成像 国际 CMOS 智能移动终端 传感芯片 产业化阶段
年,卷(期) 2013,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 46
页数 1页 分类号 TN432
字数 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
传感技术
背照式
成像
国际
CMOS
智能移动终端
传感芯片
产业化阶段
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
月刊
1674-2583
31-1325/TN
16开
上海宜山路810号
1984
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
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