原子气相沉积 原理、表征以及纳米技术应用，第2版

• 作者: 赵宇飞
• 来源期刊: 国外科技新书评介
• 学科: 物理学
• 关键词: 气相沉积 工业应用 纳米技术 原子 原理 表征 ALD
• 年，卷（期）: 2013,（10）
• 页码范围: 14-15
• 页数: 2页
• 分类号: O484.1

摘要

本书是继2008年ArthurSherman出版的“原子气相沉积”一书（ALD，AtomicLayerDeposition）的第2版。本书介绍了ALD在工程和工业应用方面的最新进展。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵宇飞	中国科学院理化技术研究所	7	2	1.0	1.0