纳米SiO2表面处理及其对聚硫密封剂性能的影响

• 作者: 冯志力 吴松华 孙超
• 来源期刊: 粘接
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米二氧化硅 硅烷偶联剂 表面改性 聚硫密封剂
• 年，卷（期）: 2013,（8）
• 所属期刊栏目: Academic paper 学术论文 -- 研究报告及专论 Research & monograph
• 页码范围: 39-41,38
• 页数: 4页
• 分类号: TQ436.6
• 字数: 2177字
• 语种: 中文

摘要

用硅烷偶联剂KH-590对纳米二氧化硅表面进行改性。考查了偶联剂用量、改性温度及时间对改性效果的影响。确定最佳改性条件为：硅烷偶联剂KH-590质量分数为5%，反应温度70℃，反应时间4h。并将改性后纳米二氧化硅用于聚硫密封剂中，提高了聚硫密封剂的耐老化和粘接性能。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙超		8	7	1.0	2.0
2	吴松华		41	135	6.0	9.0
3	冯志力		3	10	3.0	3.0