取向对PLD法制备BiFeO3薄膜性能的影响

• 作者: 黄艳芹
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: BiFeO3薄膜 铁电铁磁性 激光脉冲沉积(PLD)
• 年，卷（期）: 2013,（13）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 1932-1935
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.9|O484.4
• 字数: 3138字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2013.13.027

摘要

以快速等离子烧结法(SPS)制备的BiFeO3块体为靶材,用激光脉冲沉积(PLD)法在不同衬底上制备了BiFeO3 (100)/LaNiO3 (100)/Si(100)、BiFeO3(111)/LaNiO3 (111)/SrTiO3 (111)、BiFeO3(110) /Pt/TiO2/SiO2/Si、BiFeO3 (110) LaNiO3 (110)/Pt/TiO2/SiO2/Si不同择优取向的薄膜,并对薄膜进行了XRD和SEM分析.X射线衍射结果表明,BiFeO3薄膜外延沉积在导电层衬底上,并且它们具有相同的高度取向.SEM分析表明,薄膜上的晶粒是柱状形态,表面光滑致密且颗粒分布非常均匀,晶粒的边界和尺寸也能被清晰地观察到.通过铁电铁磁性能研究,BiFeO3(111)择优取向性能最佳.SrTiO3衬底上(111)取向的BiFeO3薄膜铁电剩余极化值达到了30.3μC/cm2,漏电流为1.0×10-3A/cm2,饱和磁化强度为20.0kA/m.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄艳芹	新乡学院化学与化工学院	34	168	8.0	10.0