ITO薄膜可见光区增透性能研究

• 作者: 刁训刚 唐芳 李仁莹 王明 王玫 董国波 高方圆
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SiO2薄膜 增透 ITO薄膜
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 页码范围: 2252-2257
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 3294字
• 语种: 中文

摘要

采用MPS单极性脉冲磁控溅射法,在PMMA衬底上制备SiO2增透薄膜,通过改变溅射时间达到最优的增透效果.在此基础上,制备了不同溅射时间的ITO薄膜,系统研究了增透前后的可见光透过率、方块电阻和红外发射率的变化.实验结果表明,增透后薄膜可见光平均透光率提高大约6％,对于溅射时间小于60 min的ITO薄膜增透之后的平均透光率达到80％以上,同时薄膜的方块电阻以及红外发射率变化较小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刁训刚	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	55	359	10.0	16.0
2	王玫	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	19	88	5.0	9.0
3	唐芳	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	29	177	5.0	13.0
4	董国波	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	16	30	3.0	5.0
5	高方圆	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	4	19	2.0	4.0
6	王明	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	12	46	4.0	6.0
7	李仁莹	北京航空航天大学物理科学与核能工程学院	1	0	0.0	0.0