基体负偏压对W-C-N薄膜摩擦磨损性能的影响

• 作者: 喻利花 王蕊 许俊华
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: W-C-N复合膜 磁控溅射 基体负偏压 摩擦磨损性能
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 表面改性
• 页码范围: 166-171
• 分类号: TG453.4
• 语种: 中文

摘要

采用多靶反应磁控溅射设备制备了一系列不同基体负偏压的W-C-N复合膜.采用X射线衍射仪、扫描电镜、能量色散谱仪、纳米压痕仪和摩擦磨损仪对薄膜进行表征.结果表明:当负偏压小于等于80 V时,薄膜表现出六方α-WCN相结构,增加到120 V时,转变为立方β-WCN相,薄膜硬度、弹性模量和膜基结合力出现对应最佳性能点的峰值；随着负偏压的增大,薄膜质量得到改善,磨损率和摩擦系数明显降低,负偏压达到200 V时,磨损率和摩擦系数分别出现最低值4.22×10-6 mm3·N-1 ·m-1和0.27；薄膜的磨损机制主要是磨粒磨损.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许俊华	江苏科技大学材料科学与工程学院江苏省先进焊接技术重点实验室	60	269	9.0	13.0
2	喻利花	江苏科技大学材料科学与工程学院江苏省先进焊接技术重点实验室	58	246	8.0	12.0
3	王蕊	江苏科技大学材料科学与工程学院江苏省先进焊接技术重点实验室	2	9	1.0	2.0