直流等离子体喷射法制备氮化碳涂层的研究

• 作者: 孟兆升 左敦稳 庆振华 李文帅 相炳坤
• 来源期刊: 工具技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化碳涂层 直流等离子喷射法 工艺参数 表征
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 10-14
• 页数: 5页
• 分类号: TG17
• 字数: 2833字
• 语种: 中文

摘要

氮化碳因预言具有超金刚石硬度、高热稳定性及优异的摩擦磨损性能,在刀具涂层的应用领域具有巨大的潜力,引起了世界上科研工作者的广泛关注.本文以CF4+N2+H2 +Ar为反应气体,通过直流等离子体喷射法(DC Plasma Jet CVD),在Si[100]基底上以金刚石薄膜为过渡层,成功制备了氮化碳涂层.利用扫描隧道显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱(Raman)等现代理化测试手段,对所制备涂层的表面形貌、成分结构进行了表征和分析.研究结果表明:所制备的涂层中金刚石过渡层表面生长了线度约300-600nm的C3N4晶粒,为亚微米级别,晶形较为清晰,呈现不规整的柱状,样品中主要含有α-C3N4与β-C3N4,涂层中N的含量为9.8％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左敦稳		510	3780	26.0	32.0
2	相炳坤		20	134	8.0	10.0
3	孟兆升		5	7	2.0	2.0
4	李文帅		4	8	2.0	2.0
5	庆振华		3	16	3.0	3.0