Al-O2反应溅射中总气流量与溅射功率对临界靶过渡模式影响

• 作者: Abe Y Chiba Y Kawamura M Sasaki K 刘光诒
• 来源期刊: 太阳能
• 关键词: 反应溅射 等离子体发射强度 靶电压 临界状态
• 年，卷（期）: 2013,（23）
• 所属期刊栏目: 太阳选择性吸收涂层系列讲座(6)
• 页码范围: 8-11
• 页数: 4页
• 字数: 1769字
• 语种: 中文

摘要

反应溅射是制造化合物薄膜最通用的一种技术,至关重要的是靶由金属模式过渡到氧化物模式的临界条件.我们研究了Al-O2反应溅射过程中,总气体流量与溅射功率对临界靶过渡模式的影响.发现在临界条件下,溅射出的Al原子数(NA1)与供给的O原子数(No)之比几乎是常数,NAl/No接近于Al2O3的理想化学配比(2∶3).因而可认为,导入的氧几乎完全被Al原子结合,靶仍处于临界条件以下,仍为金属模式.提高供给的O原子量至超过Al2O3的理想化学配比,则输入的氧量超过反应结合效应的氧量,等离子体中氧的浓度突然提高,靶的模式由金属模式变为氧化物模式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	Chiba Y		1	0	0.0	0.0
2	Abe Y		1	0	0.0	0.0
3	Kawamura M		1	0	0.0	0.0
4	Sasaki K		1	0	0.0	0.0
5	刘光诒		3	0	0.0	0.0