多晶硅薄膜结晶团晶化机理的研究

• 作者: 徐建军 栗书增 苍利民 蔡志端 阎韬 靳瑞敏
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 非晶硅薄膜 二次晶化 多晶硅薄膜 结晶团现象 晶化机理
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 页码范围: 278-281
• 页数: 4页
• 分类号: TM914.4+2
• 字数: 2898字
• 语种: 中文

摘要

本文用PECVD法在石英玻璃上沉积非晶硅薄膜,然后用快速光退火和传统电阻炉退火方法晶化生长多晶硅薄膜,用拉曼光谱仪、XRD和场发射扫描电镜观察分析薄膜,发现在制备的多晶硅薄膜表面存在结晶团现象,并对这一现象的晶化机理进行了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	靳瑞敏	南阳理工学院太阳能电池研究所	13	55	4.0	7.0
7	阎韬		5	12	2.0	3.0
11	蔡志端		3	1	1.0	1.0
12	苍利民		4	9	1.0	3.0
13	徐建军		4	9	1.0	3.0
14	栗书增		3	1	1.0	1.0