工艺参数对钛合金微弧氧化钙磷膜层结构和成分的影响

• 作者: 刘平 刘新宽 朱坚民 李伟 杨丽红 陈小红 马凤仓
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 钛合金 微弧氧化 涂层 微观结构 成分
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 表面改性
• 页码范围: 148-152
• 分类号: TG146.2|TG174.4
• 语种: 中文

摘要

为了提高钛合金的表面生物活性,采用在含有钙磷的电解液中对钛合金进行了微弧氧化,得到了含有钙磷的氧化层.研究了微弧氧化溶液浓度和氧化时间对膜层孔洞的影响,讨论了氧化膜中孔洞的形成和氧化膜生长机制.结果表明,在一定的条件下,电解液浓度的升高使得微弧氧化过程中电流密度相对增大,从而使得膜层孔洞增大.随着微弧氧化处理时间的延长,膜层表面的孔洞逐渐变小,最终封闭；膜层内钙含量随微弧氧化处理时间的延长而逐渐增多；膜层内磷含量先是增加,后有下降趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘平	上海理工大学材料学院	212	1078	16.0	22.0
2	陈小红	上海理工大学材料学院	123	622	13.0	18.0
3	杨丽红	上海理工大学机械工程学院	61	267	9.0	14.0
4	李伟	上海理工大学材料学院	131	544	12.0	19.0
5	马凤仓	上海理工大学材料学院	109	494	12.0	18.0
6	刘新宽	上海理工大学材料学院	137	518	12.0	18.0
7	朱坚民	上海理工大学机械工程学院	61	443	11.0	18.0