太赫兹QCL技术研究进展

• 作者: 吴卫东 唐永建 彭丽萍 沈昌乐 王雪敏 罗跃川 赵妍 阎大伟 黎维华
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 太赫兹 QCL 有源区 波导 频率稳定性
• 年，卷（期）: 2013,（19）
• 所属期刊栏目: 新材料新技术
• 页码范围: 109-116
• 页数: 8页
• 分类号: TN389
• 字数: 7050字
• 语种: 中文

摘要

综述了太赫兹QCL(THzQCL)有源区结构设计与制备、波导结构设计和频率控制3方面的基本原理及研究进展.THzQCL有源区薄膜厚度、组分和掺杂浓度的精确控制是材料制备过程的关键.通过提高注入电流和器件温度的稳定性可以有效减小THzQCL线宽和提高频率稳定性.随着器件功率和频率特性的提升,THz QCL将在通讯、成像和谱分析等技术领域获得广泛的应用.